X熒光光譜儀是目前市場占有率非常高的一款儀器，諸多的優點讓它在分析檢測領域大放異彩。
X熒光光譜儀儀器穩定，分析速度快，自動化程度高，用單道X射線熒光光譜儀測定樣品中的一個元素只需要5-20秒。用多道光譜儀，能在20到100秒內測定完樣品中全部的待測元素。
X熒光光譜分析法采用的是X射線熒光光譜分析，其余元素的化學結合狀態無關，所以我們往往能利用這種儀器檢測多種類樣品，晶體或非晶體的塊狀固體、粉末及封閉在容器內的液體或氣體都可以直接進行測定。
X射線熒光光譜分析是一種物理分析方法。非破壞分析、測量的重現性好。同樣它的分析精度也高，分析精度達到0.04%-2%。X射線光譜比其他發射光譜就愛吃呢，易于解析，尤其是定性分析。其能在250μm或3μm范圍內進行定位分析，面掃描成像分析；具有在低倍率定性、定量分析（帶標樣）物質成分。
X熒光光譜儀的粉末檢測
X熒光光譜分析法也能外表分析，測定部位是0.1mm深以上的外表層，可以用于外表層狀態、鍍層、薄膜成分或膜厚的測定。能有效地用于測定膜的厚度和組成。
但是同樣的，X熒光分析方法也有缺點，因為X射線熒光光譜分析是一種相對的比較分析，定量分析需要標樣對比，而且標樣的組分與被測樣的的組分要差不多，另外在制樣手法上，標樣的制作與樣品的制作要滿足一致性。
原子系數低的元素，其檢出限及測定誤差一般都比原子序數高的元素差；對于超輕元素（H、Li、Be），目前還不能直接進行分析。
X熒光光譜分析儀是一款被廣泛使用的儀器，關注儀器的信息，了解其分析方法，幫助我們更好的實現元素的分析。