在使用X熒光光譜儀時(shí)，譜線干擾的來源基本就是兩個(gè)方面，儀器和樣品。屬于樣品中固有的干擾線除采用化學(xué)分離方法去除干擾元素外，有的也可以利用儀器方法來克服，或者進(jìn)行數(shù)學(xué)上的校正。
1）激發(fā)源
對(duì)于X射線管說來，可以根據(jù)可能產(chǎn)生譜線干擾的來源，更換適當(dāng)靶材的x射線管，選擇足以抑制干擾譜線出現(xiàn)的管壓，將樣品屏蔽到較小的區(qū)域以減少?gòu)?qiáng)大的原級(jí)標(biāo)識(shí)光譜的散射等。若還不能有效地克服來自激發(fā)源的干擾時(shí)，有時(shí)也可以采用濾光片以消除干擾線，或者以原級(jí)束照射能夠產(chǎn)生波長(zhǎng)略短于分析元素吸收限的次級(jí)靶，然后以次級(jí)靶作為試樣的激發(fā)源。
上面克服譜線干擾的各種方法，往往在不同程度上犧牲了分析線的強(qiáng)度，可是，由于消除或抑制了干擾線，與此同時(shí)也在大多數(shù)情況下抑制了散射線本底的強(qiáng)度，因而常常不會(huì)影響到測(cè)定的靈敏度。在波長(zhǎng)色散法中，它的主要缺點(diǎn)是，為積累足夠大的計(jì)數(shù)，需要耗費(fèi)較長(zhǎng)的測(cè)量時(shí)間。在能量色散法中則不存在這個(gè)問題，而且靈敏度也很高。
2）分析晶體與光路
對(duì)一定結(jié)構(gòu)的波長(zhǎng)色散X射線光譜分析儀說來，可以通過選擇適當(dāng)?shù)姆治鼍w，以消除存在于樣品中干擾元素的偶數(shù)級(jí)反射線對(duì)分析線（或參比線）干擾。此外選擇分辨率高的分析晶體和準(zhǔn)直器，有時(shí)也可以消除或減輕某些譜線的干擾。
其它的，在光路中可變的部件就是標(biāo)本座、樣品的薄膜底座和x射線束衰減 （減光板）等。有時(shí)，還有可能用到濾光片，對(duì)于這些可變的部件，可以根據(jù)實(shí)際情況作出選擇，以便將譜線干擾限制在最低限度。
3）探測(cè)和測(cè)量系統(tǒng)
盡可能選擇有利工作條件，以減少或消除上述激發(fā)源和光學(xué)系統(tǒng)無法消除的干擾譜線。
一種X熒光光譜儀內(nèi)部結(jié)構(gòu)