之前的文章中，小編為大家介紹了關(guān)于X熒光光譜儀中誤差的來源，儀器本身問題及操作中出現(xiàn)的問題，這次要為大家?guī)淼氖顷P(guān)于試樣和在分析中出現(xiàn)的問題，導(dǎo)致的測量誤差。
首先為大家?guī)淼氖顷P(guān)于X熒光光譜儀檢測試樣問題帶來的誤差，可以分為以下幾個方面：
1、試樣易磨性。有的試樣沒辦法進(jìn)行簡單磨樣，磨樣比較困難易磨性較差，對測量造成影響。?
2、試樣成分。有的試樣基本組成成分與標(biāo)準(zhǔn)試樣組成成分不一致，也會影響測定結(jié)果。
3、基體效應(yīng)。基體中其它元素對分析元素的影響，包括吸收和增強(qiáng)效應(yīng)，吸收效應(yīng)直接影響對分析元素的激發(fā)和分析元素的探測強(qiáng)度。增強(qiáng)效應(yīng)使分析元素特征輻射增強(qiáng)。?
4、不均勻性效應(yīng)。X射線強(qiáng)度與顆粒大小有關(guān)，大顆粒吸收大，小顆粒吸收小，這是試樣粒度的影響。這其實(shí)是對測量粉末樣品時候需要注意的，研磨要仔細(xì)，均勻。
5、譜線干擾。各譜線系中譜線產(chǎn)生重疊、干擾，還有來自不同衍射級次的衍射線之間干擾。?
X熒光光譜儀EDX-6000
接下來帶來的是在X熒光光譜儀分析會帶來誤差的原因：
1、樣品沒有磨細(xì)，沒有達(dá)到規(guī)定的粒度，這和樣品本身和研磨力度都有關(guān)系。
2、粉末樣品需要壓實(shí)以減少試樣的不均勻性。
3、選擇無干擾的譜線、降低電壓至干擾元素激發(fā)電壓以下，選擇適當(dāng)分光晶體、計(jì)數(shù)管、準(zhǔn)直器或調(diào)整脈沖高度分析器、提高分辯本領(lǐng)，在分析晶體和探測器之間放置濾光片，濾去或減弱干擾譜線。
3、嚴(yán)格按儀器設(shè)備管理辦法安裝、調(diào)試好儀器設(shè)備，避免儀器誤差。
4、嚴(yán)格按照操作規(guī)程認(rèn)真操作，避免人為的操作誤差。
以上小編為大家?guī)淼年P(guān)于X熒光光譜儀試樣和分析兩個環(huán)節(jié)對X熒光光譜儀的測量誤差影響。